遠紫外成像光譜儀的若干關(guān)鍵技術(shù)

遠紫外成像光譜儀的若干關(guān)鍵技術(shù)

1、遠紫外成像光譜儀與一般色散型成像光譜儀的主要不同點(diǎn)在于其波段的特殊性，必須使用特殊的材料和器件。下面分別從窗121材料、光源、遠紫外探測器以及遠紫外鍍膜等方面對遠紫外成像光譜儀的關(guān)鍵技術(shù)進(jìn)行分析。

2、能夠透射遠紫外波段輻射的窗I=I材料很少且難于制造和加工。氟化鎂(MgF2)是一種應用于遠紫外波段的很好的窗口材料和鍍膜保護材料，其透射范圍為l15-8 500nln；如果要達到105 am，則需選用氟化鋰(LiF)作為窗口材料。

3、為了對研發(fā)的成像光譜儀進(jìn)行實(shí)驗和定標，一般選擇能夠輻射出115-200 nm遠紫外光的燈作為標準光源，如帶有MgF2窗口的惰性氣體燈或空心陰極燈等。

4、應用于遙感領(lǐng)域的遠紫外成像探測器要求在115-200 nm光譜波段有極高的靈敏度。需要采用特殊紫外光陰極材料(如CsI，CsTe)和多層堆疊MCP構成高增益的像增強器，制成遠紫外二維高增益ICCD成像探測器以滿(mǎn)足成像光譜探測的要求。

5、鋁以其高反射系數的特點(diǎn)常被用作這一波段的反射鍍膜材料。為了防止鋁膜氧化，可以鍍一層或多層MgF2保護膜，這樣可以顯著(zhù)提高鋁的反射系數，通過(guò)設計MgF2保護膜的厚度，可以在遠紫外波段得到盡可能高的反射率。