石墨爐系統操作原理（二）

石墨爐系統操作原理（二）

爐體必須與石墨管之間良好接觸。為的是爐體不至于過(guò)高溫度氧化，爐體必須通惰性氣體保護，為了爐體溫度不至于過(guò)高或者斷電后立即降溫，爐體內有水冷系統。在原子化階段應停止通氣，為了延長(cháng)原子在吸收區停留的事件，并且避免原子蒸汽的稀釋。

石墨爐操作原理：

整個(gè)分析程序有四個(gè)部分組成：干燥、灰化、原子化、凈化。干燥的目的是除去溶劑，保留待測物，溫度升至略低于沸點(diǎn)，在慢慢升至略高于沸點(diǎn)，通常在100℃左右，保持10-20S?；一康氖浅ビ袡C質(zhì)和易揮發(fā)基體，而待測物不損失。一般溫度在100-1800℃，灰化時(shí)間10-30S。

高溫使待測物原子化，在原子化完全或盡可能多的原子化前提下，原子化溫度盡可能低，可以延長(cháng)爐體壽命。通常為1800-3000℃，原子化時(shí)間為5-10S。

在高溫下，加熱3-5s,以除去管內樣品殘渣，以減少和避免記憶效應。注意

凈化時(shí)間要短，以防止損壞爐體。