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在循環(huán)水治理過(guò)程中，整個(gè)系統結垢的主要原因是硅酸鹽，循環(huán)水結垢后，會(huì )腐蝕垢下系統，浪費能源，甚至產(chǎn)生爆管的危險。所以，控制循環(huán)冷卻水中硅的含量意義重大。一般的循環(huán)冷卻水( CCW) 采用分光光度法檢測硅含量，這種方法操作過(guò)程中，需要采用比較多的試劑，操作步驟復雜，誤差較大，可信度較低。上海光譜儀器有限公司石墨爐原子吸收光譜法測定硅的方法始見(jiàn)于1974 年。
采用這種傳統方法試驗時(shí)，高溫危險性比較大，更換燃燒頭繁瑣，所以本文采用上海光譜原子吸收無(wú)火焰石墨爐原子化法生產(chǎn)要求CCW 的控制指標為小于等于3 × 10 － 6，為使樣品控制指標小于等于0． 03 ×10 － 6，將采來(lái)的樣品稀釋100 倍，再放入自動(dòng)進(jìn)樣器，通過(guò)樣品自動(dòng)進(jìn)樣，按照規定的工作條件進(jìn)行測試，由工作曲線(xiàn)法最終計算水中硅含量。
